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半導(dǎo)體器件中的載流子壽命及其輻照控制

半導(dǎo)體中的非平衡載流子壽命是半導(dǎo)體的一個(gè)基本特性參數(shù),它的長短將直接影響到依靠少數(shù)載流子來工作的半導(dǎo)體器件的性能,這種器件有雙極型器件和p-n結(jié)光電子器件等。但是,對(duì)于在結(jié)構(gòu)上包含有p-n結(jié)的單極型器件(例如MOSFET)也會(huì)受到載流子壽命的影響。
非平衡載流子壽命主要是指非平衡少數(shù)載流子的壽命。影響少子壽命的主要因素是半導(dǎo)體能帶結(jié)構(gòu)和非平衡載流子的復(fù)合機(jī)理;對(duì)于Si 、Ge、GaP等間接禁帶半導(dǎo)體,一般決定壽命的主要因素是半導(dǎo)體中的雜質(zhì)和缺陷。
對(duì)于少子壽命有明顯依賴關(guān)系的電子器件特性,主要有雙極型器件的開關(guān)特性、導(dǎo)通特性和阻斷特性;對(duì)于光電池、光電探測(cè)器等之類光電子器件,與少子壽命直接有關(guān)的特性主要有光生電流、光生電動(dòng)勢(shì)等。
(1)少子壽命對(duì)半導(dǎo)體器件性能的影響:
① 雙極型器件的開關(guān)特性與少子壽命的關(guān)系:
雙極型器件的開關(guān)特性在本質(zhì)上可歸結(jié)為p-n結(jié)的開關(guān)性能。
p-n結(jié)的開關(guān)時(shí)間主要是關(guān)斷時(shí)間,而關(guān)斷時(shí)間基本上就是導(dǎo)通時(shí)注入到擴(kuò)散區(qū)中的少子電荷消失的過程時(shí)間(包括有存儲(chǔ)時(shí)間和下降時(shí)間兩個(gè)過程)。少子壽命越短,開關(guān)速度就越快。因此,為了提高器件的開關(guān)速度,就應(yīng)該減短少子壽命。
② 器件的阻斷特性與少子壽命的關(guān)系:
半導(dǎo)體器件在截止?fàn)顟B(tài)時(shí)的特性——阻斷特性,實(shí)際上也就是p-n結(jié)在反向電壓下反向漏電流大小的一種反映。因此,這里器件的阻斷特性不單指雙極型器件,而且也包括場(chǎng)效應(yīng)器件在內(nèi)。
p-n結(jié)的反向漏電流含有兩個(gè)分量:一是兩邊擴(kuò)散區(qū)的少子擴(kuò)散電流,二是勢(shì)壘區(qū)中復(fù)合中心的產(chǎn)生電流;這些電流都與少子壽命有關(guān),載流子壽命越長,反向漏電流就越小,則器件的阻斷特性也就越好。當(dāng)載流子壽命減短到一定程度時(shí),反向電流即大幅度地上升,就會(huì)產(chǎn)生反向電流不飽和的“軟”的阻斷特性。
一般,硅p-n結(jié)的反向漏電流主要是勢(shì)壘區(qū)復(fù)合中心的產(chǎn)生電流,因此載流子的產(chǎn)生壽命將嚴(yán)重地影響到器件的阻斷特性。所以注意工藝控制,減小雜質(zhì)和缺陷的不良影響,對(duì)于提高器件的阻斷特性至關(guān)重要。
總之,為了獲得良好的器件阻斷特性,要求器件應(yīng)該具有較長的少數(shù)載流子壽命。為此,半導(dǎo)體的摻雜濃度不可太高,勢(shì)壘區(qū)中的復(fù)合中心濃度要盡量減少。
③ 器件的導(dǎo)通特性與少子壽命的關(guān)系:
半導(dǎo)體器件導(dǎo)通特性的好壞可以用它的導(dǎo)通電阻或者導(dǎo)通壓降來表征;導(dǎo)通壓降越低,器件的大電流性能就越好,器件的功率處理能力也就越強(qiáng)。  對(duì)于雙極型器件,從本質(zhì)上來看,它的導(dǎo)通特性實(shí)際上可近似地歸結(jié)為p-n結(jié)的正向?qū)ㄌ匦?;而?duì)于雙極型功率器件而言,其正向?qū)ㄌ匦钥蓺w結(jié)為pin二極管的導(dǎo)通特性。
因?yàn)橐话鉷-n結(jié)的正向電流主要是少子擴(kuò)散電流,則少子壽命越短,少子的濃度梯度越大,正向電流就越大,于是在同樣電流情況下的導(dǎo)通壓降也就越低。所以少子壽命宜較短一些。
但是,對(duì)于pin結(jié)則有所不同,因?yàn)閜in結(jié)處于正偏時(shí),即有大量電子和空穴分別從兩邊注入到本征的i型層,則必為“大注入”;這時(shí)可以認(rèn)為i型層中的電子濃度等于空穴濃度,并且均勻分布,即n=p=const。正是由于在i型層中存在大量的兩種載流子,所以必然會(huì)產(chǎn)生電導(dǎo)調(diào)制效應(yīng),使得pin結(jié)的正向電壓降低。
而pin結(jié)的正向?qū)щ娛怯奢d流子渡越i型層(勢(shì)壘區(qū))時(shí)的復(fù)合過程所造成的,則pin結(jié)的導(dǎo)通特性與i型層中載流子的復(fù)合壽命有很大的關(guān)系。在此考慮到大注入的強(qiáng)烈影響,因此決定載流子壽命的因素除了大注入下的壽命——雙極復(fù)合壽命τa以外,還需要計(jì)入Auger復(fù)合的壽命τA,于是應(yīng)該采用有效壽命τeff的概念。由于i層載流子的有效壽命越長,在大注入情況下該層的電導(dǎo)調(diào)制效應(yīng)就越強(qiáng),則器件的正向壓降也就越低,因此pin結(jié)的正向壓降與載流子有效壽命成反比。然而,有效壽命將隨著正向電流密度的增大而減短,特別是在大電流密度時(shí),有效壽命將顯著變短,從而會(huì)導(dǎo)致正向壓降很快增加。
(2)載流子壽命的控制原理:
如上所述,對(duì)于功率器件而言,它的開關(guān)特性要求載流子壽命越短越好,而它的阻斷特性和導(dǎo)通特性卻要求載流子壽命越長越好。因此,同一種半導(dǎo)體器件的不同特性,對(duì)于載流子壽命的要求不一定相同。這就產(chǎn)生了一個(gè)所謂壽命優(yōu)化的問題,即如何綜合考慮、恰當(dāng)?shù)剡x取載流子的壽命,以使得器件的特性能夠最大限度地滿足使用要求。
對(duì)于Si等半導(dǎo)體器件,影響載流子壽命的主要因素是缺陷和有害雜質(zhì)構(gòu)成的復(fù)合中心的濃度以及半導(dǎo)體的本底摻雜濃度。復(fù)合中心的重要特性參數(shù)是它的能級(jí)位置以及俘獲截面。在復(fù)合中心的能級(jí)位置和半導(dǎo)體摻雜濃度適當(dāng)時(shí),復(fù)合中心將成為最有效的復(fù)合中心,則對(duì)載流子壽命的影響最大。
一般,復(fù)合中心能級(jí)越深(即越靠近本征Fermi能級(jí))、半導(dǎo)體摻雜濃度越高(即Fermi能級(jí)越靠近能帶邊),復(fù)合中心就越有效。例如,位于導(dǎo)帶底以下0.54eV的復(fù)合中心一般就滿足該條件,為一個(gè)最有效的復(fù)合中心;而位于導(dǎo)帶底以下0.3eV的復(fù)合中心則是無效復(fù)合中心。
實(shí)際上,最有效的復(fù)合中心也具有較小的對(duì)兩種載流子的俘獲截面之比(接近1)??傊?,復(fù)合中心的能級(jí)越靠近禁帶中央,而且其俘獲截面比越接近1,則該復(fù)合中心就越有效,壽命也就越短。在小注入時(shí),少子壽命與注入水平無關(guān),而僅決定于復(fù)合中心的能級(jí)位置和俘獲截面之比;在大注入時(shí),任何復(fù)合中心決定的載流子壽命都將趨于雙極壽命τa=τno+τpo(僅決定于復(fù)合中心的濃度和俘獲截面之比)。
a)兼顧高阻斷特性和高開關(guān)速度特性的優(yōu)選復(fù)合中心:
為了提高器件的開關(guān)速度,應(yīng)該少子的小注入壽命盡可能短,即要求復(fù)合中心能級(jí)靠近禁帶中央和俘獲截面比接近1;但是,為了提高器件的阻斷能力,應(yīng)該少子的產(chǎn)生壽命盡可能長,即要求復(fù)合中心能級(jí)遠(yuǎn)離禁帶中央和俘獲截面比大于1。這種對(duì)載流子壽命的矛盾要求,也就意味著少子的產(chǎn)生壽命τs與少子的復(fù)合壽命τp之比(τs/τp)應(yīng)該取極大值。
分析表明:①τs/τp比值的大小與復(fù)合中心的性質(zhì)(能級(jí)位置和俘獲截面比)無關(guān),但只有在適當(dāng)?shù)哪芗?jí)位置、俘獲截面比和溫度情況下才能達(dá)到最高值;②復(fù)合中心能級(jí)靠近能帶邊(Ec或者Ev)時(shí),τs/τp比值最大;③最大的τs/τp比值與摻雜濃度和俘獲截面比有關(guān),并且摻雜濃度越低、俘獲截面比越大,則不同復(fù)合中心能級(jí)位置不影響τs/τp取最大值的范圍就越大,同時(shí)溫度越高、該范圍也越大(但最大τs/τp比值與本征載流子濃度有關(guān))。
總之,兼顧器件的高阻斷特性和高開關(guān)速度特性的優(yōu)化復(fù)合中心,其能級(jí)應(yīng)該位于能帶邊附近處;并且在輕摻雜半導(dǎo)體中,比較容易選擇這種優(yōu)化復(fù)合中心;在同樣摻雜濃度時(shí),對(duì)于俘獲截面比較大的復(fù)合中心,它的能級(jí)位置受到的限制較小。
b)兼顧高導(dǎo)通特性和高開關(guān)速度特性的優(yōu)選復(fù)合中心:
為了降低功率器件在大電流時(shí)的導(dǎo)通壓降,應(yīng)該增長有效載流子壽命,也就是要求大注入時(shí)的載流子壽命(τH=τa)足夠長,以加強(qiáng)少子的電導(dǎo)調(diào)制作用。但是,為了提高開關(guān)速度,則希望少子在小注入時(shí)的壽命(τL)足夠短。因此,要使得一種復(fù)合中心能夠兼顧大電流和高速度的需要,就必須選取τH/τL比值取極大值的那種復(fù)合中心。
分析表明:①能夠使τH/τL比值取極大值的復(fù)合中心,正好是其τs/τp比值取極小值,因此高速大電流的器件,就難以顧及到高的阻斷電壓,反之亦然;②較高的τH/τL比值,要求復(fù)合中心能級(jí)位于禁帶中央處,這正好也與高τs/τp比值的要求恰恰相反;③τH/τL比值與半導(dǎo)體摻雜濃度有關(guān),并且變化幅度還與復(fù)合中心能級(jí)的位置有關(guān)。
可見,從載流子壽命的優(yōu)選方面來看,器件的高速大電流性能與高速高耐壓性能一般較難以同時(shí)兼顧。不過,如果選取某種復(fù)合中心,若它的少子壽命對(duì)注入水平具有很高的敏感性的話,使得大注入時(shí)τH最大,小注入時(shí)τL最小,則既可以得到大電流下的較好導(dǎo)通特性,也可以得到小電流時(shí)的較好阻斷特性,那么高速大電流性能與高速高耐壓性能之間的矛盾即可適當(dāng)?shù)鼐徑狻?/div>
此外,在優(yōu)選復(fù)合中心時(shí)還需要考慮其它一些方面的問題,例如: ① 復(fù)合中心對(duì)載流子的補(bǔ)償問題:
例如n型Si中的Au,是一種復(fù)合中心雜質(zhì),它有一個(gè)能級(jí)位于導(dǎo)帶底以下0.54eV處,起著受主作用;當(dāng)Au濃度接近于施主濃度時(shí),將會(huì)使平衡電子濃度顯著下降,這就是Au的補(bǔ)償效應(yīng)。
復(fù)合中心的這種補(bǔ)償效應(yīng),顯然將會(huì)使半導(dǎo)體電阻率升高,并因而影響到器件的導(dǎo)通壓降和阻斷電壓。因此,為了降低復(fù)合中心的這種補(bǔ)償作用,應(yīng)該選取對(duì)少子具有很大俘獲截面的那種復(fù)合中心雜質(zhì);這樣既可以保持所需要的壽命,而且又可以降低起補(bǔ)償作用的復(fù)合中心的濃度,以減弱對(duì)載流子濃度(半導(dǎo)體電阻率)的影響。
② 復(fù)合中心對(duì)多種摻雜濃度的適應(yīng)性問題:
為了器件制作工藝的方便,對(duì)于不同的半導(dǎo)體器件最好能夠統(tǒng)一采用一種壽命控制的方法,即摻入一種復(fù)合中心雜質(zhì);這就要求在控制壽命的同時(shí),半導(dǎo)體電阻率不要發(fā)生變化。因此,應(yīng)該選取壽命或者兩種壽命的比值對(duì)摻雜濃度不敏感的那些復(fù)合中心雜質(zhì)。不過,這對(duì)于高阻半導(dǎo)體而言往往是一件很困難的事情。  
(3)控制少子壽命的主要方法: 一般,有兩個(gè)方面需要考慮:
一是注意在工藝過程中控制好載流子壽命,使得不發(fā)生變化。這里主要是要注意清潔度和操作過程的控制,以避免有害雜質(zhì)的引入和減少工藝誘生的二次缺陷。
二是通過有意摻入一些深能級(jí)雜質(zhì),或者造成一些晶體缺陷來加以控制,因?yàn)樵S多深能級(jí)雜質(zhì)和晶體缺陷都將構(gòu)成復(fù)合中心。在Si器件中,常用作為復(fù)合中心的深能級(jí)雜質(zhì)是Au和Pt,常用來引入晶體缺陷的措施是電子輻照。Au和Pt以及電子輻照,這三種復(fù)合中心的引入方法各有千秋。一般,可以見到:
①對(duì)于高摻雜(低電阻)半導(dǎo)體材料,摻Au和摻Pt的τH/τL比值都較大;但對(duì)于低摻雜(高電阻)半導(dǎo)體材料,
只有摻Au的τH/τL比值才較大。因此,從既降低導(dǎo)通壓降、又提高開關(guān)頻率的角度來考慮時(shí),還是摻Au的效果比較好。
②從少子產(chǎn)生壽命與大注入壽命之比(τs/τH)來看,摻Pt和電子輻照的比值較大,因此,在保持導(dǎo)通壓降相同的情況下,摻Pt和電子輻照都可以維持器件的反向漏電流較小。
③對(duì)于摻Pt的Si,τH/τL比值隨摻雜濃度的變化很大,因此Pt作為功率器件的復(fù)合中心不太理想;
④對(duì)于電子輻照的Si,τH/τL比值基本上不隨摻雜濃度而變化,因此,電子輻照能夠?qū)β势骷峁┍容^理想的復(fù)合中心;
⑤對(duì)于摻Au的Si,τH/τL比值完全不隨摻雜濃度而變化,因此,Au也是功率器件的一種理想的復(fù)合中心。
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